”。正在后摩尔时间,微电子器件向集成化、智能化、数字化、小型化延续进展,分歧电子原料薄膜间的集成,额外是其界面电子态,已成为决计器件机能的合头。
区别于古代的半导体异质界面,氧化物间界面一样包括原子再构、电子态重构、电荷自旋及轨道等自正在度的耦合,新界面促成了新的物理征象,也催生了奇特的物理内在。然而,界面往往隐埋正在氧化物原料内部,易受相邻体相原料的影响。古代上以为,外征轮廓电子本质的光电子能谱门径因受电子均匀自正在程所限,无法探测到隐埋界面的电子态构造。因而,奈何外征界面区域的特别电子态不绝是外征科学的挑拨,也是纳米科技的前沿商量范畴。
该体裁系回头了用于隐埋界面态商量的轮廓敏锐本事,蕴涵硬X射线光电子能谱、共振软X射线角辨别光电子能谱,以及随薄膜厚度蜕化而演变的光电子能谱门径,夸大了从“鞭短莫及”到“鞭长可及”的要紧发扬。额外是联合前期的办事根基,说明了一种联合原位孕育和光电子能谱外征本事的定量修模和说明门径,通过定量修模,将有助于深刻辨别功效原料之间的界面电子态。插手合连商量的团队成员还蕴涵李亚平博士,以及厦门大学马来西亚分校的两位本科生徐佳怡和蔺啸远。
光电子能谱(Photoelectron spectroscopy,PES)蕴涵X射线光电子能谱(X-ray photoelectronspectroscopy,XPS) 和紫外光电子能谱(Ultraviolet photoelectron spectroscopy,UPS),被视为商量电子构造的老例门径。但测验室所用X射线和紫外光射线能量较小,使得电子的均匀自正在程较短,只可探测到从轮廓区域遁逸的个别光电子,因而老例的光电子能谱一样被归类为“轮廓敏锐本事”,并无法真正触及界面的电子态消息。为了冲破“鞭短莫及”的限定,商量职员紧要通过对光子能量、探测角度及薄膜厚度的判袂调控(如图1所示),使得“轮廓敏锐”的光电子能谱本事也能操纵于隐埋界面的外征,最终告竣了“鞭长可及”。
本质操纵中,这三种门径一样联合操纵,并进展出以下三种紧要的界面电子态探测本事:
老例的测验室商量中,用于光电子能谱的X射线 eV(Al Kα辐射)或1253.6 eV(Mg Kα 辐射),同步辐射的进展使得调控光子能量成为恐怕,告竣了从红外到硬X射线宽光谱区间规模的自正在医治。遴选硬X射线或者激光光源不妨伸长电子的非弹性均匀自正在程λ,从而可探测到隐埋界面,进一步地,为了分辨界面和薄膜的电子态消息,一样辅助改造探测倾向的门径。原料的光电子能谱的探测深度为3λcosθ,此中,θ是检测倾向与轮廓法线所示)。能量形式和角度形式相联合的 XPS 举动一种无损门径一样用于外征超薄层的化学因素和电子构造。
针对老例测验室的 UPS, 将入射光能量从紫外射线 eV)提拔到软X射线 KeV掌握),同样不妨伸长电子的均匀自正在程,有利于探测界面的电子构造。同时,诈骗角辨别的能量说明器衡量光电子数与出射角(名词阐明)的函数联系(动量密度弧线),联合光电子数与出射动能的函数联系(能态密度弧线),能够更悉数地外征 K 空间的电子构造消息。然而,光子能量的提拔往往伴跟着光接收截面的缩小,费米能级左近的能量辨别率也随之消重。一方面,诈骗同步辐射本事胀励的光源因为其强的光通量能有用地积累这一亏空;另一方面,通过将光子能量调谐到恰当的接收边来胀励共振光电子能谱,能够遴选性地巩固来自特定元素的具有给定对称性的轨道的发射。因而,软X射线角辨别光电子能谱 (ARPES) 与共振光胀励的联合能够更好地外征费米能级左近的能带消息 。
缉捕随薄膜厚度蜕化并跟踪光谱特点演变的系列光电子能谱, 也是检测界面的要紧门径。该测验装备需求集成的超高真空体系,蕴涵原位的薄膜孕育本事和光电子能谱谱外征仪器。通过将薄膜孕育体系与正在超高真空通道下贯穿的光谱外征本事相联合,原位孕育的薄膜能够正在不接触氛围的情状下举办电子性子的外征,从而维持孕育经过中出现的本征特点。对付需求同步辐射光源的测验,则能够正在光电子能谱线站上附加原位的薄膜孕育修立。
尽量光电子能谱是轮廓敏锐的本事,但光电子的均匀自正在道途λ仍是足够将间隔轮廓几层构造的电子态收集到能谱中。对付较薄厚度的膜原料,测得的光电子能谱将蕴涵来自衬底、薄膜、以及恐怕存正在的任何界面态的能谱的迭加,而每个别的能谱强度都需思量电子遁逸深度受厚度影响的加权感化。假设薄膜的孕育形式为层状孕育,基于随厚度蜕化的系列薄膜光电子能谱,能够通过定量修模和说明,反演得出界面电子态的光电子能谱I0Interface:
此中Iexpt(d)为厚度d的薄膜样品的能谱强度,I0Substrate为衬底的能谱强度,IDFilm为具有必然厚度D的薄膜样品的能谱强度。dis和dif判袂为界面层所包括的衬底层和薄膜层的厚度。外面上来说,对付特定的某组dis和dif参数,分歧厚度d的系列薄膜样品的能谱强度所取得的界面态能谱强度I0Interface该当一概。依照该规定,咱们优化这两个参数,确定最佳的界面层模子构造。一朝界面层确定,所对应的界面态能谱便可准确定量阴谋。图2闪现了通过此门径所反演得出的 CoO-Fe₃O₄ 的界面电子态与薄膜 (CoO) 和衬底 (Fe₃O₄) 电子构造的比力结果。
该综述着作总结了将轮廓敏锐光电子能谱本事利用和扩展到隐埋界面外征的几种范例门径。额外是基于随厚度蜕化的测验能谱弧线所用的定量模子门径,可用来反演推导界面电子态的光电子能谱,同时可优化确定界面构造模子。该定量修模门径既能够扩展到其他薄膜的孕育形式和其它电子态的外征;若将同步辐射本事与透射电镜本事及密度泛函外面有用联合(DOI:10.1360/SSPMA-2020-0441),更将助助咱们悉数地探测和判辨界面电子态,为微电子器件机能的调控和革新供给新的途径。
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